TEM窗格

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TEM窗格

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TEM薄膜窗口是利用MEMS技術制備而成，由于此種窗口選用低應力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比計量式薄膜更堅固耐用。甫一提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學研究領域，例如，X-射線、TEM、SEM、IR、UV等。

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尺寸規格

3 mm x 3 mm （窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：50 nm）

3 mm x 3 mm （窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm）

3 mm x 3 mm （窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：100 nm）?

邊框厚度： 200μm、381μm

Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm

TEM窗格

劉經理：18913756333（微信同號）

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